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人民智雲華為與三星專利侵權訴訟達成和解
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本報訊 2月26日，華為與三星一起持續2年之久的專利侵權糾紛達成和解，向美國法院申請終止訴訟。
據悉，該案始於2016年。兩家公司相互起訴，稱對方違反合同、侵犯專利權。此案件計劃於今年9月在美開始審理，三星訴稱華為違反公平、合理和無歧視原則。華為起訴三星非法使用其技術，其中主要涉及4G通信技術、智能手機操作功能相關軟件，包括Galaxy S7/S7edge在內的近20款三星終端產品涉嫌侵犯其2010年申請的“一種可應用於終端組件顯示的處理方法和用戶設備”專利權。（美 知）
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